设备名称：

半自动显影清洗机

适应工件：

2～8寸晶圆片清洗

批量产能：

8寸25PCS/批

工艺流程：

QDR←显影→QDR←显影→QDR

工艺槽功能：

循环过滤+加热冷却+上下抖动+硅片滚动

主要材料：

金属骨架+PVC/PPW壳板，槽体采用PPN/PVDF材质

运送方式：

手动传送

节拍时间：

依工艺5～15min可调

其他说明：

设备可根据客户要求定制全自动显影机