关于施密科

苏州施密科微电子设备有限公司位于以“人间天堂”、“园林之城”而闻名天下的苏州，公司成立于2017年，是一家集研发，生产，销售为一体的湿法制程设备制造商；服务于晶圆衬底材料、化合物半导体、SAW、IGBT、MEMS、先进封装等多个领域。

公司核心团队均由十年以上从业经验的行业精英组成，拥有丰富的半导体行业高端项目经验；目前我司已与国内外多家知名企业展开合作，凭借先进的研发技术、精尖的人才梯队和丰富的产品线，赢得了客户的一致好评及信赖。

产品介绍

全自动RCA清洗机

应用领域：集成电路 硅片 碳化硅 硅部件 氮化镓  砷化镓  InP LN/TN等化合物衬底片及外延片 RCA清洗

设备特点：

• 一体式人机操作系统，连续式自动化生产，工作效率高，节约人工成本；

• 软件与硬件为模块化设计；

• 马兰戈尼干燥破片率低，洁净度高；

• 采用PC+PLC控制，支持GEM/SECS接口；

• 具有数据存储功能，供用户使用读取。

  
  

全自动抛光后清洗机

应用领域：集成电路 晶圆片8/12硅片 碳化硅 氮化镓  砷化镓  InP LN/TN等化合物衬底片抛光后清洗

设备特点：

• 整机清洗部分为全封闭结构，装有可拆卸观察检修门及监控系统；

• 专用排风及排废系统，提高设备安全性；

• 槽体采用流场控制技术，循环分流控制；

• 设备占地面积小；

• 各工序参数可于PLC触摸屏内直接设定，操作简单。

全自动研磨后清洗机

应用领域：集成电路 晶圆片8/12硅片 6/8碳化硅 硅部件 LN/TN 砷化镓等化合物衬底片和研磨后清洗

设备特点：

• 设备带有MES功能，优质PP框架，全封闭结构；

• 触摸式人机交互界面，全自动控制系统；

• 自主知识产权的软件系统；

• 生产数据实时记录，具有多种数据分析及存储功能；

• 部件采用知名品牌，性能可靠，使用寿命长，故障率低。

抛光液供液系统

应用领域：集成电路（IC）和超大规模集成电路（ULSI）中对基体材料硅晶片的抛光液集中混配和集中供液

设备特点：

• 可实现抛光液原液供给，原液到混配供给，原液到混配到多路分配供给；

• 混液可配置自循环，电机搅拌，比重计，PH计，温度计，浓度计等功能；

• 采用耐腐蚀导线并通过耐腐蚀PE管进行保护，防腐防水；

• 配有接地装置及紧急关机和报警系统。